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实际上并不是这样,虽然集成电路的生产制造过程都差不多,但具体到不同产品上又有很大不同。在20nm节点上,三星、SK Hynix及美光还可以使用45nm工艺级别的半导体印刷设备,但再往下就难了,工艺需要改进,三星已经开始启用双重曝光工艺,很多制造设备都是需要改进或者升级的。从20nm到18nm,三星的DRAM内存能效据称提升了20%。  现在的情况是,三星已经开始量产18nm工艺DRAM内存,为了进一步提升产能,三星还在安装更多的半导体设备,预计今年夏天产能会大幅提升。 

本文责编:左移湘
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